GEW cGMP 洗浄乾燥装置

cGMP GEW 洗浄乾燥装置用排気ユニットは、高活性物質を回収できる高性能HEPAフィルタリングシステムを備えたスタンドアロン型ソリューションです。このシステムは、API 曝露への潜在的な危険から、従業員と環境を保護します。

Getinge は、洗浄乾燥装置のアクセサリーの最適化及び洗浄対象物やプロセスのニーズに合わせたカスタマイズ設計で、安全で人間工学に基づいたシステムで最適な洗浄ソリューションを提供します。

小規模施設に理想的なソリューション

GEW 888 は、スペースに制約がある小規模施設に特化したコンパクトサイズの洗浄機です。垂直スライド式のドアで設置面積を最小化します。50 リットルの容器から小型ガラス器具まで、GEW 888は、2つの独立した洗浄レベルにより柔軟性と高いスループットを実現できます。

多用途に使える洗浄機

GEW 9109 は、様々な用途に適している洗浄機です。810L容量のチャンバーは、2段階での洗浄を可能にしながら、水の使用量を最低限に抑えます。低いサイクルコストと高い生産性に加え、人間工学に基づいて設計された自動スライドドアを搭載しています。

ミディアムサイズの GEW 101210 は、主に製造エリア向けに設計されています。GMP コンプライアンスに準拠するための多くの機能は各モデルに標準仕様として装備されています。チャンバーには、シングルドア仕様又はパススルー仕様によって1 つまたは 2 つの垂直ヒンジ付きガラスドアが付いています。ヒンジ付きドアは、設置場所を最適化し、設置面積を最小限に抑えます。

GEW 131313 は、GEW 101210 と同様に製造エリア向けに設計され、GMP要件を満たしています。GEW 131313はシングルドアとダブルドアの2種類の仕様があります。パススルー機能を必要とするオペレーションに対応するほか、縦型ヒンジドアの採用により設置面積を最小限に抑えることができます。

このモデルは、バイオ医薬品の製造向け洗浄に開発され、機械部品からバルク化学薬品用大型容器やベッセルまで処理することが可能です。深さ 320 mm（12.6 インチ）のピット設置に対応しているため、大型かつ重い部品を直接にフロアローディングすることが可能です。ピット設置ができない場合は、320 mm（12.6 インチ）の積載高さで床設置することにも対応します。